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Titolo: Applied chaos / edited by John Hyun Kim, John Stringer

Pubblicazione: New York \etc.! : Wiley, ©1992

Tipo di risorsa: testo, Livello bibliografico: monografia, Lingua: eng, Paese: US

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OPAC
unifi
IT-FI0230
Biblioteca di Scienze tecnologiche dell'Università degli studi di Firenze - Sede di Ingegneria, Firenze
unipi
IT-PI0225
Biblioteca di Ingegneria dell'Università di Pisa, Pisa

Record aggiornato il: 2022-07-14T00:29:52.853Z